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澤攸電鏡ZEM20Ultro:電子制造質(zhì)檢新助力

產(chǎn)品簡介

澤攸電鏡ZEM20Ultro:電子制造質(zhì)檢新助力
在電子制造領(lǐng)域,從半導(dǎo)體芯片封裝到 PCB 板加工,再到微型電子元件組裝,每一個環(huán)節(jié)的微觀質(zhì)量都直接影響產(chǎn)品性能與可靠性。傳統(tǒng)檢測手段難以捕捉納米級缺陷,而大型電鏡又受限于空間與操作門檻。ZEM20Ultro 臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡(以下簡稱 ZEM20Ultro)憑借高分辨率成像、靈活的樣品適配性與便捷的操作設(shè)計,成為電子制造質(zhì)檢環(huán)節(jié)的實用工具

產(chǎn)品型號:
更新時間:2025-09-23
廠商性質(zhì):代理商
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澤攸電鏡ZEM20Ultro:電子制造質(zhì)檢新助力

在電子制造領(lǐng)域,從半導(dǎo)體芯片封裝到 PCB 板加工,再到微型電子元件組裝,每一個環(huán)節(jié)的微觀質(zhì)量都直接影響產(chǎn)品性能與可靠性。傳統(tǒng)檢測手段難以捕捉納米級缺陷,而大型電鏡又受限于空間與操作門檻。ZEM20Ultro 臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡(以下簡稱 ZEM20Ultro)憑借高分辨率成像、靈活的樣品適配性與便捷的操作設(shè)計,成為電子制造質(zhì)檢環(huán)節(jié)的實用工具,幫助企業(yè)及時發(fā)現(xiàn)微觀缺陷,提升產(chǎn)品良率。
一、適配電子制造的產(chǎn)品細(xì)節(jié)
ZEM20Ultro 的臺式結(jié)構(gòu)設(shè)計充分考慮電子車間的空間需求,850mm×650mm×1000mm 的尺寸可輕松安置在車間質(zhì)檢工位或?qū)嶒炇遥瑹o需單獨規(guī)劃大型設(shè)備區(qū)域。機身外殼采用冷軋鋼板與 ABS 工程塑料組合,冷軋鋼板具備良好的抗電磁干擾能力,可減少車間內(nèi)其他設(shè)備(如貼片機、焊接機)的電磁輻射對電鏡成像的影響;ABS 塑料部件表面光滑,便于清潔車間內(nèi)常見的粉塵與焊劑殘留,保持設(shè)備長期穩(wěn)定運行。
針對電子元件的微小尺寸特性,ZEM20Ultro 的樣品臺設(shè)計尤為精細(xì)。樣品臺支持 X/Y/Z 三軸電動移動,行程 50mm×50mm×20mm,移動精度達(dá) 1μm,可精準(zhǔn)定位芯片引腳、PCB 線路等微小觀測區(qū)域。樣品臺配備專用夾具,能固定直徑≤30mm、厚度≤10mm 的電子元件,無論是 BGA 芯片、微型連接器還是 PCB 小塊樣品,都能穩(wěn)定承載。此外,樣品臺可兼容導(dǎo)電與非導(dǎo)電樣品,無需額外更換夾具,減少質(zhì)檢流程中的設(shè)備調(diào)整時間。
核心光學(xué)部件的用材也貼合電子檢測需求。場發(fā)射電子槍采用鎢單晶針尖,曲率半徑小于 10nm,能發(fā)射高亮度、細(xì)聚焦的電子束,可清晰呈現(xiàn)電子元件表面的細(xì)微結(jié)構(gòu);多層膜電磁透鏡由高純度軟磁合金制成,經(jīng)過精密校準(zhǔn),能有效抑制電子束散射,確保在高放大倍數(shù)下(如 50000×)仍能保持成像清晰度,便于觀察芯片線路的細(xì)微缺陷。
二、支撐電子質(zhì)檢的產(chǎn)品性能
  1. 高分辨率缺陷檢測:電子元件的微小缺陷(如芯片焊球氧化、PCB 線路斷線、連接器引腳變形)是導(dǎo)致產(chǎn)品失效的主要原因。ZEM20Ultro 在二次電子成像模式下,30kV 加速電壓時分辨率可達(dá) 1.5nm,1kV 低加速電壓時分辨率 10nm,既能檢測芯片表面納米級的氧化層厚度,也能識別 PCB 線路上微米級的劃痕與凹陷。例如檢測 BGA 芯片焊球時,可清晰觀察焊球表面是否存在裂紋、空洞,判斷焊接質(zhì)量是否合格。

  1. 低真空模式適配非導(dǎo)電樣品:電子制造中的塑料連接器、陶瓷基板等非導(dǎo)電樣品,傳統(tǒng)電鏡需鍍膜處理才能觀測,而鍍膜可能掩蓋樣品表面缺陷。ZEM20Ultro 內(nèi)置低真空模式,真空度可在 1Pa-100Pa 之間調(diào)節(jié),無需鍍膜即可直接觀測非導(dǎo)電樣品。例如檢測塑料連接器引腳時,可直接觀察引腳表面的注塑缺陷(如飛邊、缺料),避免鍍膜過程對缺陷的覆蓋,提升檢測準(zhǔn)確性。

  1. 穩(wěn)定的批量檢測能力:電子制造常需進(jìn)行批量樣品質(zhì)檢,ZEM20Ultro 的電子束穩(wěn)定性≤0.5%/h,長時間連續(xù)檢測(如 8 小時)中,成像參數(shù)變化極小,可確保同一批次樣品的檢測標(biāo)準(zhǔn)一致。設(shè)備支持 “自動掃描序列" 功能,可預(yù)設(shè)多個觀測區(qū)域與成像參數(shù),一鍵啟動后自動完成批量樣品的圖像采集與數(shù)據(jù)保存,大幅減少人工操作時間,提升質(zhì)檢效率。

三、電子制造中的具體用途與使用說明
(一)主要用途
  1. 芯片封裝質(zhì)檢:檢測 BGA、QFP 等芯片的焊球高度、間距與表面狀態(tài),識別焊球氧化、虛焊、空洞等缺陷;觀察芯片封裝膠體的表面裂紋與內(nèi)部氣泡,評估封裝可靠性;分析芯片與基板的結(jié)合界面,判斷是否存在分層缺陷。

  1. PCB 板檢測:觀測 PCB 線路的寬度、厚度與邊緣平整度,檢測線路腐蝕、斷線、短路等問題;識別 PCB 表面的阻焊層缺陷(如氣泡、脫落);分析 PCB 過孔的孔徑、鍍層厚度與內(nèi)壁平整度,確保過孔導(dǎo)電性能良好。

  1. 微型電子元件檢測:檢測 MEMS 傳感器的微結(jié)構(gòu)尺寸(如懸臂梁厚度、間隙),判斷是否符合設(shè)計要求;觀察微型連接器的引腳形態(tài)(如彎曲、變形),評估插拔性能;檢測 LED 芯片的電極尺寸與表面缺陷,確保發(fā)光性能穩(wěn)定。

(二)使用說明(以 “BGA 芯片焊球質(zhì)量檢測" 為例)
  1. 樣品準(zhǔn)備:從生產(chǎn)線上取待檢 BGA 芯片,用無塵布蘸取異丙醇輕輕擦拭芯片表面,去除焊球上的助焊劑殘留;若芯片尺寸較大,可切割為包含 10-20 個焊球的小塊樣品,便于放置在樣品臺上。

  1. 設(shè)備啟動與真空設(shè)置:打開 ZEM20Ultro 主機電源,啟動操作軟件,選擇 “高真空模式"(BGA 芯片為金屬導(dǎo)電樣品),點擊 “抽真空",待真空度達(dá)到≤1×10??Pa(軟件提示 “真空就緒")后,進(jìn)入下一步操作。

  1. 樣品裝載與定位:打開樣品室門,將 BGA 芯片樣品放置在樣品臺中心,通過樣品臺微調(diào)旋鈕固定;關(guān)閉樣品室門,在軟件界面控制 X/Y 軸移動,將其中一個焊球調(diào)整至視野中心,調(diào)節(jié) Z 軸高度,使焊球表面與電子束聚焦平面重合。

  1. 成像參數(shù)設(shè)置:選擇 “二次電子成像" 模式,設(shè)置加速電壓為 15kV(兼顧分辨率與樣品損傷),電子束電流為 5pA,掃描速度為 “快速模式"(幀頻 10fps);點擊 “自動聚焦" 與 “自動亮度 / 對比度",軟件自動優(yōu)化成像參數(shù),清晰呈現(xiàn)焊球表面細(xì)節(jié)。

  1. 缺陷檢測與數(shù)據(jù)記錄:調(diào)整放大倍數(shù)至 5000×,觀察焊球表面是否存在裂紋、氧化斑點或空洞;放大至 20000×,測量焊球直徑與高度(軟件內(nèi)置尺寸測量工具),對比設(shè)計標(biāo)準(zhǔn)(如焊球直徑偏差允許 ±0.05mm);若發(fā)現(xiàn)缺陷,標(biāo)記缺陷位置并截取圖像保存;重復(fù)上述步驟,檢測其他焊球,統(tǒng)計芯片焊球合格率。

  1. 設(shè)備關(guān)閉與樣品處理:檢測完成后,將放大倍數(shù)調(diào)至(20×),點擊 “放氣" 按鈕,待樣品室恢復(fù)大氣壓后取出樣品;關(guān)閉操作軟件與設(shè)備電源,用無塵布清潔樣品臺,完成本次質(zhì)檢。

四、電子質(zhì)檢場景核心參數(shù)摘要
項目
電子質(zhì)檢關(guān)鍵參數(shù)
分辨率
1.5nm(30kV),10nm(1kV)(焊球缺陷、線路細(xì)節(jié)檢測)
真空模式
高真空≤1×10??Pa(導(dǎo)電樣品),低真空 1Pa-100Pa(非導(dǎo)電樣品)
樣品臺參數(shù)
行程 50mm×50mm×20mm,移動精度 1μm,承載 50g(適配電子元件尺寸)
電子束穩(wěn)定性
≤0.5%/h(批量檢測一致性保障)
數(shù)據(jù)輸出
USB3.0、HDMI,支持 BMP/TIFF/JPEG(質(zhì)檢報告圖像與數(shù)據(jù)存檔)
ZEM20Ultro 臺式場發(fā)射掃描電子顯微鏡,以高分辨率、靈活的樣品適配性與高效的批量檢測能力,成為電子制造質(zhì)檢環(huán)節(jié)的可靠助力。無論是芯片封裝的細(xì)微缺陷檢測,還是 PCB 板的線路質(zhì)量把控,它都能提供精準(zhǔn)、便捷的觀測支持,幫助電子企業(yè)提升產(chǎn)品質(zhì)量,降低不良率,在激烈的市場競爭中保持優(yōu)勢。


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