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PRODUCTS CNTER基恩士 VK?X3000 激光共聚焦顯微鏡概覽基恩士 VK?X3000 是面向材料形貌與尺寸測量的激光共聚焦顯微系統。該儀器采用激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化三種掃描原理,可根據樣品的材質、形狀和測量范圍靈活切換,實現 42?28800 倍的放大范圍,無需手動對焦。
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基恩士 VK?X3000 激光共聚焦顯微鏡概覽
基恩士 VK?X3000 是面向材料形貌與尺寸測量的激光共聚焦顯微系統。該儀器采用激光共聚焦、白光干涉、聚焦變化三種掃描原理,可根據樣品的材質、形狀和測量范圍靈活切換,實現 42?28800 倍的放大范圍,無需手動對焦。
產品細節
光源:激光(波長 ≤?405?nm,壽命 ≥?1?萬小時)+ 白光 LED(壽命 ≥?3?萬小時),滿足高功率、長壽命需求。
光學系統:雙共焦針孔、遠心鏡頭設計,確保整體測量精度;配備 292 種分析工具,可實現高度、尺寸、粗糙度等多維度測量。
掃描性能:面掃描最高 125?Hz,線掃描最高 7900?Hz,支持高速 3D 形貌獲取。分辨率可達 0.01?nm,重復性 1?σ ≤?12?nm(高度)/40?nm(寬度)。
檢測器:光電倍增管 16?bit,具備高靈敏度光電探測能力。
主要參數表
項目 | 參數 |
---|---|
放大倍率 | 42?28800× |
最大視場 | 50?mm?×?50?mm |
分辨率 | 0.01?nm |
掃描速度 | 125?Hz(面)/7900?Hz(線) |
激光波長 | ≤?405?nm |
LED 壽命 | ≥?30?000?h |
檢測器位深 | 16?bit |
重復性(高度) | ≤?12?nm |
重復性(寬度) | ≤?40?nm |
適用領域
半導體器件三維形貌與尺寸檢測
微電子封裝結構分析
高分子材料表面粗糙度測量
生物醫學樣本的形態學觀察
使用說明要點
樣品準備:確保樣品表面清潔、平整;對透明或高反射樣品可選用白光干涉模式。
模式選擇:在軟件界面選擇激光共聚焦、白光干涉或聚焦變化;系統會自動匹配對應光學路徑。
參數設定:設定掃描范圍、分辨率、幀數;推薦先使用低分辨率預掃描定位感興趣區域。
自動聚焦:系統具備自動聚焦功能,啟動后可在數秒內完成對樣品的最佳焦點定位。
數據導出:測量結果可導出為 CSV、TXT、DXF 等通用格式,便于后續統計與 CAD 處理。
基恩士 VK?X3000 激光共聚焦顯微鏡概覽